
Cible de pulvérisation de zirconium
2. Nom du produit : cible de pulvérisation de zirconium.
Symbole 3.Element:Zr
4. Pureté : 2N5, 3N5
5.Forme : cible plane, cible rotative
Des caractéristiques similaires s'appliquent aux propriétés des cibles de pulvérisation en zirconium. Son point de fusion est de 1852 degrés, sa densité est de 6,49 g/cc et sa pression de vapeur à 1987 degrés est de 10 -4 Torr. C'est un métal de transition solide qui est brillant, blanc cassé et similaire au titane et à l'hafnium dans une moindre mesure. Le zirconium est principalement utilisé comme opacifiant et matériau réfractaire, mais en raison de sa haute résistance à la corrosion, une infime quantité de zirconium est également utilisée comme agent d'alliage.
Propriétés de la cible de pulvérisation de zirconium (théorique)
| Masse moléculaire | 91.22 |
|---|---|
| Apparence | Métal gris |
| Point de fusion | 1852 degrés |
| Point d'ébullition | 3580 degrés |
| Densité | 6506 kg/m3 |
| Solubilité dans H2O | N/A |
| Résistance à l'électricité | à 20 degrés oC, 40,0 microhm-cm |
| Électronégativité | 1.4 Paulings |
| Coefficient de Poisson | 0.34 |
| Chaleur spécifique | 0.0671 Cal/g/K à 25 oC degré |
| Résistance à la traction | 230 MPa |
| Conductivité thermique | 0.227 W/cm/K à 298,2 K |
| Dilatation thermique | (25 degrés) 5,7 µm·m-1·K-1 |
| Dureté Vickers | 903 MPa |
| Module d'Young | 88 GPa |
Les cibles de pulvérisation en zirconium sont fabriquées à l'aide d'un procédé de fusion et sont généralement utilisées pour les revêtements optiques et ornementaux. Nous fournissons des cibles Hf et Zr standard pour les équipements de revêtement Leybold, qui sont des cibles très pures avec très peu de Hafnium.
Alors que des cathodes à arc en zirconium et des cibles de pulvérisation de moindre pureté sont utilisées pour créer des films de couleur or. Les utilisateurs finaux peuvent obtenir une bonne dureté, une luminosité élevée, une couleur résistante à la corrosion et à l'oxydation qui ne se décolore pas ou ne ternit pas pendant une très longue période avec une pureté allant jusqu'à 99,4 %, une taille de grain constante et une teneur réduite en impuretés. Pour les producteurs de montres, d'appareils sanitaires, de rétroviseurs de véhicules, etc., nous fournissons des cibles en zirconium ou des cathodes à arc en zirconium adaptées à diverses machines de pulvérisation magnétron et machines de placage ionique.
Le certificat d'analyse habituel pour la cible de pulvérisation de zirconium 3N5 est fourni ci-dessous.
Techniques analytiques :
1. ICP-OES a été utilisé pour examiner les éléments métalliques ;
2. LECO a été utilisé pour étudier les éléments gazeux.

Pour les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), l'affichage et les applications optiques, Yusheng Metals se spécialise dans les cibles de pulvérisation de zirconium de haute pureté avec la densité la plus élevée et la plus petite taille de grain moyenne. Nous proposons des cibles plates dans des tailles et des configurations jusqu'à 820 mm, en variantes monolithiques et collées, avec des positions de perçage des trous et des conceptions pour les filetages, les chanfreins, les évidements et les feuilles de fond. Ces cibles peuvent être utilisées avec des appareils de pulvérisation plus anciens et plus modernes, y compris des flip-chips et des revêtements de grande surface pour les piles à combustible ou solaires. De plus, des tailles et des alliages uniques, ainsi que des objectifs de recherche, sont fabriqués.
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