Cibles de pulvérisation en tungstène et titane

Cibles de pulvérisation de tungstène-titane :

Nos cibles de pulvérisation en tungstène et titane sont produites à l’aide de techniques de fabrication métallurgiques des poudres de pointe. Nous proposons des cibles de pulvérisation WTi dans une gamme de tailles, jusqu'à 400 millimètres de diamètre. Nous sommes parmi les premiers fabricants à créer le WTi à la fois comme cible rotative et comme cible planaire. La teneur en titane de nos cibles WTi est généralement de 10 % en poids.

Cibles de pulvérisation tungstène-titane

Alliage tungstène-titane

Domaines d'application du tungstène-titane :
Le tungstène-titane (WTi), qui contient 10 % de titane en poids, est utilisé comme colle de métallisation et barrière de diffusion dans les micropuces. Dans ce cas, le WTi est utilisé pour séparer les couches de métallisation et de semi-conducteur, comme le cuivre du silicium ou l'aluminium du silicium. Sans barrières de diffusion, le silicium et le cuivre se combineraient pour créer une phase intermétallique dans les micropuces, ce qui compromettrait les performances du semi-conducteur. Une couche barrière WTi est utilisée dans les cellules solaires à couches minces flexibles (CIGS) pour empêcher les ions fer de se diffuser à travers le contact arrière en molybdène et dans le semi-conducteur. L’efficacité des cellules solaires CIGS peut être considérablement diminuée avec seulement quelques g/g de fer.

a.La métallurgie des poudres est utilisée pour créer des cibles de pulvérisation en tungstène-titane, largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs et de cellules solaires à couches minces.

b.Le film mince WTi10wt% est utilisé dans les applications de semi-conducteurs comme couche d'adhésion et barrière de diffusion pour isoler les couches de métallisation du semi-conducteur, comme le cuivre ou l'aluminium du silicium. En conséquence, la fonction des transistors dans les micropuces peut être considérablement améliorée.

La couche mince c.WTi10wt% est également utilisée dans les cellules solaires à couche mince comme couche barrière pour empêcher les ions de fer de se diffuser du substrat en acier vers le contact arrière en molybdène et le semi-conducteur CIGS. Les cibles en tungstène-titane sont également utilisées pour couvrir les outils et les LED. .

Dans les deux figures, une métallisation de semi-conducteurs à puce retournée utilisant des couches de WTi est présentée sous la construction schématique d'une cellule solaire CIGS à gauche.

La qualité de la couche augmente avec la pureté de la substance de revêtement. Afin de garantir la plus grande pureté des matériaux, nous utilisons uniquement la poudre la plus pure et la mélangeons dès le début dans nos propres installations. De la poudre au produit fini, nous surveillons de près chaque étape pour nous assurer que seules les cibles présentant la densité, la pureté et une microstructure homogène garanties avec précision quittent nos installations.

Notre usine est capable de fabriquer des cibles avec WTi 90/10% en poids, WTi 85/15% en poids et des cibles de pulvérisation de tungstène-titane de composition spéciale qui peuvent être personnalisées. La densité des cibles réelles est > 99 % et la taille typique des grains est de 100 um. Les utilisateurs finaux peuvent obtenir des taux d'érosion constants et un revêtement en film mince homogène et de grande pureté pendant le processus PVD avec une pureté jusqu'à 4N5 et un traitement de recuit spécial, une granulométrie uniforme et une teneur en gaz réduite.

Si vous avez des besoins ou des questions, n'hésitez pas à nous contacter.

 

 

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