Cible de pulvérisation de tungstène

Le métal de tungstène de haute pureté utilisé pour fabriquer des cibles de pulvérisation de tungstène est généralement cassant et difficile à travailler. Le tungstène peut conserver sa dureté (qui est supérieure à celle de nombreux aciers) et a suffisamment de ductilité pour le rendre simple à traiter s'il est transformé en un matériau très pur. Il passe par des processus de forgeage, d'étirage ou d'extrusion. En règle générale, le frittage est également utilisé pour créer des objets en tungstène.

Le tungstène a la plus forte résistance à la traction, la pression de vapeur la plus faible (à des températures supérieures à 1650 degrés, 3000 degrés F) et le point de fusion le plus élevé de tous les métaux sous forme pure (3422 degrés, 6192 degrés F). De tous les métaux purs, le tungstène a le plus faible coefficient de dilatation thermique. De fortes connexions covalentes créées par les électrons 5d entre les atomes de tungstène confèrent au tungstène sa faible dilatation thermique, son point de fusion élevé et sa grande résistance à la traction. L'acier devient beaucoup plus durable lorsque le tungstène est allié avec lui en quantités modestes.

La production de cibles de pulvérisation cathodique en tungstène dans une variété de formes et de pureté est une spécialité de Yusheng Metal, qui est principalement utilisée dans les semi-conducteurs et la micro-électronique. En raison de leur point de fusion le plus élevé de tous les métaux, les couches de tungstène, qui font partie des transistors à couche mince utilisés dans les écrans TFT-LCD, sont incroyablement stables dans les environnements à haute température. Nos cibles ont une densité plus élevée, une taille de particules moyenne plus faible et une pureté plus élevée grâce à nos techniques de formage uniques, vous permettant de profiter d'un processus plus rapide grâce à des vitesses de pulvérisation plus élevées et de produire des couches de tungstène très homogènes.

Notre technique de production flexible nous permet de modifier la microstructure pour produire le résultat requis. L'utilisateur peut bénéficier de taux d'érosion constants et de couches homogènes si les grains de la cible de pulvérisation sont uniformément alignés. 100 m est la taille de grain typique.

Une cible de pulvérisation métallique doit avoir une excellente pureté chimique car cela se traduira par des films avec une plus grande conductivité électrique et une formation de particules réduite pendant le processus PVD. Le certificat d'analyse typique pour une cible de tungstène 3N5 est fourni ci-dessous.

Techniques analytiques :

1. GDMS et ICP-OES ont été utilisés pour examiner les éléments métalliques.
2. LECO a examiné les composants du gaz.

La préparation des matériaux, le frittage et l'analyse chimique sont les étapes de la préparation de la cible de pulvérisation de tungstène. Laminage, annalisation, inspection métallographique, fabrication, inspection tridimensionnelle, nettoyage, inspection finale, emballage et expédition

Cible de pulvérisation en tungstène et sa technique de préparation
Pureté supérieure à 99,95 %, 2,2–2,6 mm, pressage isostatique à froid pendant 5–10 minutes, 2300–2400 degrés, 8–12 heures de frittage par induction à fréquence intermédiaire et mélange de poudre de tungstène de 1450–1500 degrés. Il est laminé à chaud à une épaisseur de 5 à 15 mm par de nombreuses passes, avec une déformation totale de plus de 60 %, après un recuit à 1550 degrés pendant 90 à 180 minutes. Après une période de recuit de 90 à 150 minutes à 1300 à 1400 degrés, un traitement mécanique est effectué. Le matériau cible final en tungstène est non seulement performant, mais également relativement facile à traiter et ne nécessite pas d'équipement coûteux. La quantité de traitement mécanique sur la surface est d'environ 1,5 mm.

D'autres alliages cibles en tungstène sont disponibles.
Cibles en tungstène titane, alliage tungstène titane, tungstène cuivre, tungstène manganèse, tungstène nickel, etc.

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