
Cible en titane
Vue d'ensemble des cibles en titane (Ti)
Matériau cible en titane, symbole d'élément en titane Ti, numéro atomique 22, densité 4,454 g/Cm3, propriétés physiques : point de fusion 1668 degrés, point d'ébullition 3262 degrés, capacité thermique spécifique 0.52 (J / (Kg-K) , chaleur d'évaporation 421 (KJ/Mol), chaleur de fusion 15,45 (KJ/Mol), conductivité électrique 0.0234 (106/Cm). En raison du coût élevé du titane de haute pureté, le domaine d'application est extrêmement limité, principalement utilisé comme matériaux semi-conducteurs et matériaux absorbant les gaz dans les dispositifs à ultra-vide Le titane de haute pureté absorbe les gaz, en particulier l'hydrogène, le CH4 et les gaz Co2, il peut donc être largement utilisé dans le vide poussé et l'ultra -systèmes à vide poussé. Lorsque la pulvérisation de titane de haute pureté est utilisée pour fabriquer le réseau de lignes de LSI, VLSI et ULSI, ces pièces intégrées peuvent être rendues très légères, fines, de petite taille et denses en ligne. Des cibles de titane de haute pureté peuvent également être utilisés comme matériaux métalliques de couche barrière.
Nous produisons des cibles en titane pulvérisé de haute pureté, dont le principal avantage est d'obtenir des films avec une excellente conductivité électrique et une minimisation des particules lors du dépôt physique en phase vapeur. Méthodes analytiques utilisées : 1. analyse des éléments métalliques par GDMS ou ICP-OES ; 2. Analyse des éléments gazeux à l'aide de LECO.

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Cibles de pulvérisation en titaneUn article
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