99,99 % d'oxyde de tantale
Propriétés physiques et chimiques de l'oxyde de tantale à 99,99 %
Densité | 8,2 g/mL à 25 degrés (lit.) |
Point de fusion | 1872 degrés |
Pureté | 99,99 pour cent |
Formule moléculaire | O5Ta2 |
Masse moléculaire | 441.89300 |
Message d'intérêt public | 77.51000 |
spécification | 5 μm ou produit selon les exigences du client. |
Apparence | Blanc à blanc - poudre beige |
Conditions de stockage | Gardez le récipient scellé, rangez-le dans un endroit frais et sec et assurez une bonne ventilation ou évacuation dans la salle de travail |
La stabilité | Pas de décomposition si utilisé et stocké conformément aux spécifications, pas de réactions dangereuses connues, éviter les oxydes. Insoluble dans l'eau. Insoluble dans presque tous les acides sauf l'acide fluorhydrique. La fusion eutectique avec du bisulfate de potassium, avec des hydroxydes de métaux alcalins ou avec des carbonates de métaux alcalins donne respectivement des tantalates équivalents à divers métaux. Les tantalates sont généralement facilement hydrolysés et sont complètement décomposés par l'action d'acides inorganiques forts, ce qui donne un précipité de tantalate colloïdal blanc. Lorsque l'acide tantalique est complètement déshydraté, on obtient du pentoxyde de tantale. |
Spécifications et emballage de l'oxyde de tantale à 99,99 % :
1, nous pouvons traiter et commander différentes spécifications selon les exigences des utilisateurs.
2, emballage : boîte en bois ou selon les exigences de l'utilisateur, divisée en sacs et barils.
Applications d'oxyde de tantale à 99,99 % :
Principalement utilisé pour les matériaux revêtus, l'électro-optique. La température d'évaporation est de 192 0 degrés sous un vide de 10-2 Pa. Il peut être chauffé par des bateaux en tantale, en tungstène et des serpentins pour l'évaporation, ou par des creusets en tungstène pour l'évaporation, avec de bons résultats avec un faisceau d'électrons chauffage. Les films d'oxyde de tantale ont une zone transparente de 0,3 à 10 μm et un indice de réfraction de n=2.25 (λ=0.4 μm) et n=2.1 (λ{{12 }}.55 μm, Ts=250 degré ). Les revêtements Ta2O5 peuvent être utilisés comme matériau de film à indice de réfraction élevé dans les revêtements interférentiels, et leurs propriétés mécaniques sont extrêmement solides et les alcalis puissants ne les corrodent pas. Il peut également être utilisé comme revêtement de protection, notamment pour des applications dans des environnements à haute température.
Les couches minces peuvent être préparées en appliquant diverses méthodes telles que l'oxydation thermique, l'évaporation par faisceau d'électrons, la pulvérisation c.c., la pulvérisation magnétron c.c. réactive, la pulvérisation cathodique RF, la pulvérisation cathodique réactive, la pulvérisation cathodique réactive RF, la pulvérisation cathodique par faisceau ionique, le placage ionique, la précipitation assistée par ion et l'anodisation. oxydation.
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