Le matériau cible a un large marché, une variété d’utilisations utiles et un avenir prometteur. Passons rapidement en revue les principales exigences de performance du matériau cible afin que vous puissiez mieux comprendre les performances du matériau. J'espère sincèrement que cela vous sera utile.
Pureté : étant donné que la pureté de la cible a un impact significatif sur les performances du film, la pureté est l'une des principales mesures de performance de la cible. Les critères de pureté du matériau cible diffèrent cependant dans les applications pratiques. Par exemple, la taille du silicium les plaquettes sont passées de 6'', 8'' à 12'' en raison de l'expansion rapide de l'industrie microélectronique, et la largeur du câblage est passée de 0,5 um à 0,25 um, 0 .18um, voire 0.13um, auparavant 99. Une pureté cible de 995 % peut satisfaire aux exigences de la procédure 0.35umIC, alors que 99 est nécessaire pour préparer le 0.18um line.99,9999% voire 999%.
Teneur en impuretés : Les principales sources de pollution du film déposé sont les impuretés présentes dans le solide cible et l'oxygène et la vapeur d'eau dans les pores. Des cibles variées, pour diverses raisons, nécessitent des teneurs en impuretés variées. Par exemple, le secteur des semi-conducteurs a des normes spécifiques pour la concentration de éléments radioactifs et métaux alcalins dans des cibles en aluminium pur et en alliages d'aluminium.
Densité : Le matériau cible doit généralement avoir une densité plus élevée afin de réduire les pores du solide et d'augmenter la fonctionnalité du film pulvérisé. Les caractéristiques électriques et optiques du film sont également affectées par la densité du matériau cible, en plus du taux de pulvérisation. Les performances du film augmentent avec la densité de la cible. La capacité du matériau cible à survivre au stress thermique pendant le processus de pulvérisation est également améliorée en augmentant sa densité et sa résistance. L'une des principales mesures de performance de la cible est la densité.
