Nom: Tantalum (TA Target)
Type: cible plan, cible multi-arc, cible ronde, cible rotative
Taille des grains: 45 microns
Pureté: 99,99%, 99,999%
Rougosité de surface: Ras 0. 8UM (surface de pulvérisation), Ras6.4UM (pour la métallisation)
Taille cible φ25, 3 0, 40, 50,5, 60, 76,2, 80, 100, 101,6 mm, t: 0. 2-10 mm, etc.
Équipement applicable pour la cible de Tantalum: Applicable à divers systèmes de pulvérisation à cible unique, systèmes de pulvérisation multi-cibles, systèmes de pulvérisation d'ions et autres équipements de pulvérisation de magnétron de la technologie de North Huachuang, Zhongke Keyi, Shenyang Keyi, China Electronics Technology, Institute of Microélectronics, Jinsheng Micro-Nano, Techno Denton Denton Doguum, etc.
Tantalum Target Application Domans: Production et applications de recherche scientifique, optique, traitement des micro-nano, appareils et autres industries, largement utilisés dans les puces semi-conductrices, la lumière solaire
Type: cible plate, cible multi-arc, cible ronde, cible rotative, affichage plat, revêtement spécial et autres produits de revêtement.
Personne-ressource : Kelly
Courriel : kd@tantalumysjs.com
WhatsApp \/ Skype: +86 13379388917
Téléphone \/ WeChat: +86 13379388917
Télécopieur : 0917-3139100
Code postal: 721013
Web: www.tantalumysjs.com
Ajouter: Zone industrielle du village de Wenquan, zone de développement de la gaoxine, ville de Baoji, province du Shaanxi, Chine
