Domaines d'application des matériaux cibles en tantale

Principalement utilisé dans le dépôt physique en phase vapeur et d'autres processus, pendant le processus de pulvérisation cathodique, les atomes à la surface de la cible de tantale sont bombardés et déposés sous la forme d'un film mince sur le substrat pour obtenir le matériau de film mince souhaité.
Le point de fusion du tantale atteint 2 996 degrés, ce qui permet aux cibles en tantale de maintenir une bonne stabilité structurelle dans des environnements de pulvérisation à haute température-et ne se déforme pas ou ne s'évapore pas facilement. La densité est généralement supérieure à 16,6 g/cm³, ce qui peut réduire les problèmes de fissuration ou de déformation lors de la pulvérisation, tout en réduisant les éclaboussures de particules et en améliorant la qualité du film. À la température de pulvérisation, il n'est pas facilement volatil, ce qui garantit une perte minimale du matériau cible pendant le processus de pulvérisation et fournit des atomes de tantale stables pour le dépôt de couches minces.
Les propriétés chimiques du tantale sont très stables et il ne réagit pratiquement pas avec d'autres acides, à l'exception de l'acide fluorhydrique et de l'acide sulfurique concentré chaud. Il peut également être utilisé pendant une longue période dans des environnements chimiques difficiles, et le film de tantale qui en est fabriqué présente également une bonne résistance à la corrosion. La surface du tantale est susceptible de former un film de passivation d'oxyde de tantale dense et stable, ce qui peut empêcher efficacement une corrosion par oxydation supplémentaire et améliorer la durée de vie du matériau.
Champ d'application
Dans la production de circuits intégrés, les matériaux cibles en tantale sont utilisés pour préparer des couches barrières de diffusion, empêcher les interconnexions en cuivre de se diffuser dans les substrats de silicium, améliorer la fiabilité et les performances des dispositifs. Ils peuvent également être utilisés comme matériaux de grille ou comme partie de grilles métalliques pour les MOSFET, ainsi que comme électrodes de condensateur dans les dispositifs de mémoire haute densité tels que les DRAM.
Dans la production d'écrans à cristaux liquides (LCD) et de diodes électroluminescentes organiques (OLED), des cibles en tantale sont utilisées pour préparer les électrodes et les couches de câblage des transistors à couches minces (TFT). Leur stabilité et leur conductivité contribuent à améliorer la qualité d’affichage. En outre, ils peuvent également être utilisés comme couches d’encapsulation en couches minces dans les OLED pour prolonger la durée de vie des appareils.
Utilisés pour préparer des films optiques tels que des revêtements ou des filtres antireflets, les films de tantale de haute pureté-ont un indice de réfraction uniforme et une bonne durabilité, adaptés aux instruments optiques de précision tels que les objectifs d'appareil photo et les appareils laser. Dans les environnements chimiques, pétroliers, marins et autres, les revêtements anti-corrosion préparés à partir de matériaux cibles en tantale peuvent protéger efficacement les équipements, les pipelines et les conteneurs de la corrosion.